iPhone 18 Pro及20周年版渲染图曝光，全面屏革新，挖孔设计逐渐消失

最近流出的iPhone 18 Pro和20周年iPhone渲染图显示，挖孔设计逐渐消失，预示着苹果将推出全新的外观设计，这一变化将进一步提升用户体验和视觉感受，成为未来iPhone的重要亮点之一，期待苹果在新品发布会上为我们带来更多惊喜。

11月15日消息，根据博主透露的信息，预计在2026年发布的iphone 18 pro系列将首次对灵动岛进行面积缩减，而将于2027年推出的20周年纪念款iphone，则有望实现真正的全面屏设计，届时face id与前置摄像头将全部集成于屏幕下方。

已有数码博主依据相关爆料制作了iPhone 18 Pro及20周年版iPhone的渲染图，从图中可以看出，这两代机型的正面开孔区域正逐步缩小，朝着无挖孔的真全面屏方向演进。

目前，安卓阵营已有多款搭载屏下摄像头技术的真全面屏手机上市，代表品牌为努比亚，其红魔11 Pro系列和努比亚Z80 Ultra均采用了该方案。以努比亚Z80 Ultra为例，该机型通过应用纳米级高透材料与独立像素驱动技术，大幅提升了屏下摄像区域的透光性能，从而实现了前摄在各种使用场景下的完美隐藏。

相较之下，苹果若要达成类似效果，不仅需攻克前置镜头的屏下放置难题，还需将整个Face ID模组集成于屏幕之下，在确保显示完整性的同时维持高精度的面部识别功能。

此前，多项苹果关于屏下Face ID的技术专利已被公开。其中一项新专利提出，通过重新设计屏幕像素布局，移除特定区域的部分子像素，使红外光线能够更有效地穿透屏幕盖板，进而支持高效稳定的屏下人脸识别系统。