日本对台积电2nm刻蚀机技术的野心揭秘，刻蚀机价值堪比EUV光刻机

日本对台积电2nm制程技术的兴趣背后，原因在于刻蚀机的价值不亚于EUV光刻机，随着半导体工艺的发展，刻蚀机在芯片制造中的地位愈发重要，台积电在先进制程技术上的优势，尤其是其即将量产的2nm工艺，吸引了日本的关注，而刻蚀机的技术突破和重要性提升，使得日本对台积电这一领域的布局产生了浓厚兴趣，这一发现揭示了日本对半导体产业前沿技术的追求和对先进制程技术的重视。

8月29日消息，台积电2nm工艺技术外泄案近日正式侦结，共有3人被提起公诉，最高可面临14年有期徒刑，案件后果极为严重。

此案还牵涉到日本半导体设备大厂KEL威力科创。主犯陈某原为台积电员工，离职后加入该公司。作为全球领先的半导体设备供应商，KEL在业内具有举足轻重的地位。

事件曝光后，威力科创迅速将涉事员工开除，并发布声明称，经内部调查，目前未发现任何机密信息被泄露至第三方，也未发现公司存在组织性指使该前员工获取不当资料的行为。

虽然企业层面已明确划清界限，但外界普遍认为，KEL对台积电2nm制程技术的兴趣不言而喻。有分析指出，KEL与日本Rapidus存在合作关系，而Rapidus正致力于2nm工艺研发，计划于2027年实现量产。

不过，这一说法尚无确凿证据支持。考虑到台积电本身就是KEL的重要客户之一，为其竞争对手窃取技术显然风险极高。真正驱动此行为的核心因素，仍是商业利益——特别是争夺台积电2nm产线的设备订单，其中最关键的正是刻蚀设备订单。

提到半导体制造，公众往往聚焦于EUV光刻机。一台EUV设备售价高达1.5亿至2亿美元，而下一代High NA EUV更可能突破3至4亿美元。

然而，除光刻外，先进制程对刻蚀工艺的要求同样严苛。据悉，台积电一座2nm晶圆厂需配备超过100台刻蚀机，单台价格约300至400万美元，整体订单规模可达3至4亿美元以上，总价值甚至超过光刻机采购。

目前有能力角逐台积电2nm刻蚀设备订单的厂商仅有三家：日本KEL威力科创、美国LAM研究集团以及AM应用材料公司。他们将共同竞争台积电未来近10座2nm晶圆厂的设备供应资格。

在此背景下，KEL员工联合台积电内部人员获取工艺细节，极可能是为了提前优化设备方案，提升中标几率。归根结底，这起窃密案背后仍是巨额订单的商业博弈。

相较各种阴谋论，这一解释更为合理。但目前KEL已将责任归于个人行为，否认有任何高层授意或系统性参与。

至于KEL与台积电未来的合作关系，多年来的供应链默契不会轻易断裂。据悉，KEL社长近期或将亲自前往台积电协商，双方仍需就2nm设备采购展开谈判，最终结果无非是报价与条件的权衡。